坩埚是一种以陶瓷为基础的容器，具有很好的耐高温性，可用于工业金属冶炼或铸造，但石墨和碳化硅坩埚用于工业，其中石墨坩埚的导热性能较好，但是其容易被氧化，破损率大，而碳化硅坩埚比较石墨坩埚体积，大使用寿命较长。

真空镀膜设备 主要是指真空度较高的涂层，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束延伸、PLD激光溅射沉积等多种类型。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

镀膜技术日新月异。对于镀膜工程师来说，根据不同的镀膜工艺选择最好的晶振片并不容易。

日常生活历经真空镀膜机镶上一层膜层的设备是特别多的，运用到各个领域，厨具，家俱，卫浴洁具，电子产品，包裝商品，数控刀片，摸具，车截这些，都使用了真空镀膜机镶上了一层很薄的膜层，即更改了特性，也更改其外观度

氧化锆坩埚达99.9，密度6.00，使用温度2200度，主要用于熔化贵金属，耐热性和稳定性好。主要用于熔化贵金属。氧化锆坩埚具有良好的温度稳定性，是高温耐火产品的理想实验。

INFICON半导体传感器采用残余气体分析、光发射光谱测量、石英晶体微天平(膜厚仪)、检漏仪、压力计、射频测量等一系列工艺传感技术。

PVD是物理气相沉积，是世界上广泛应用的先进表面处理技术。其工作原理是利用气体放电在真空条件下分离气体或蒸发物，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上

真空电镀是一种物理沉积现象。也就是说，氩气被注入真空，氩气撞击目标材料。目标材料的分离成分子被导电货物吸附，形成均匀光滑的表面层。

高频绝缘陶瓷是一种应用广泛的精密氧化铝陶瓷，具有独特的制造工艺和特点。